We helpen de wereld te groeien sinds 1983
English
Hoge druk 25mpa gasdrukregelaar wordt gebruikt voor laboratoriumcorrosief giftig gas met uitgelichte afbeelding
  • Hoge druk 25mpa gasdrukregelaar wordt gebruikt voor laboratoriumcorrosief giftig gas
  • Hoge druk 25mpa gasdrukregelaar wordt gebruikt voor laboratoriumcorrosief giftig gas
  • Hoge druk 25mpa gasdrukregelaar wordt gebruikt voor laboratoriumcorrosief giftig gas
  • Hoge druk 25mpa gasdrukregelaar wordt gebruikt voor laboratoriumcorrosief giftig gas
  • Hoge druk 25mpa gasdrukregelaar wordt gebruikt voor laboratoriumcorrosief giftig gas
  • Hoge druk 25mpa gasdrukregelaar wordt gebruikt voor laboratoriumcorrosief giftig gas

Hoge druk 25mpa gasdrukregelaar wordt gebruikt voor laboratoriumcorrosief giftig gas

Korte beschrijving:

Functies

1. Single Stage Piston -detectiestructuur
2. Grotere afstelbereik van de uitlaatdruk
3. Het kan worden gebruikt voor standaard gas en niet -corrosief gas
4. Installeer een filterelement van 20 micron bij de inlaat
5. Toepassingsopties voor zuurstofomgeving kunnen worden verstrekt


Productdetail

Video

Parameters

Informatie bestellen

Toepassingen

FAQ

Producttags

Productbeschrijving

海报图
细节

Functies

1. Single Stage Piston -detectiestructuur
2. Grotere afstelbereik van de uitlaatdruk
3. Het kan worden gebruikt voor standaard gas en niet -corrosief gas
4. Installeer een filterelement van 20 micron bij de inlaat
5. Toepassingsopties voor zuurstofomgeving kunnen worden verstrekt
  • Vorig:
  • Volgende:

    • Specificatie van gasdrukregelaar

    Technische gegevens

    1. Maximale inlaatdruk: 4500psi of 6000psi

    2. Uitlaatdrukbereik: 0 ~ 1500,0 ~ 3000

    3. Materiaal van interne componenten:

    Klepstoel: PCTFE

    Zuiger: 316L

    O-ring: FKM

    Filterelement: 316L

    4. Werktemperatuur:- 26 ℃ ~ + 74 ℃ (- 15 ℉ ~ + 165 ℉)

    5. Leksnelheid (helium): Binnenin: geen zichtbare bubbels External: geen zichtbare bubbels

    6. Stroomcoëfficiënt (CV): 0,09

    7. Ouderpoort: inlaat: 1 / 4NPT Outlet: 1 / 4NPT DUPERMAATSPORT: 1 / 4NPT

    R11 尺寸图 1 R11 流量图

    Schoonmaaktechnici

    Standaard (WK-BA)
    De gelaste fittingen worden schoongemaakt in overeenstemming met onze standaard reinigings- en verpakkingsspecificaties.
    Bij het bestellen hoeven er geen achtervoegsels te worden toegevoegd.
    Zuurstofreiniging (wk - o2)
    Specificaties voor het reinigen en verpakken van producten voor zuurstofomgevingen zijn beschikbaar.
    Dit voldoet aan ASTM G93 Klasse C SCHRINDSTOFVEREISTEN. Voeg bij het bestellen -o2 toe aan het einde van het bestelnummer.

    R41-1

    Betrokken industrieën

    TFT-LCD

    Het proces speciale gassen die worden gebruikt in het CVD-depositieproces van TFT-LCD-productieproces zijn silaan (S1H4), ammoniak (NH3), fosfine (PH3), stikstofoxide (N2O), NF3, enz. Bovendien zijn hoge zuiverheidshydrogen en hoge zuiverheidsstikstof en andere bulkgassen ook betrokken bij het proces. Argon wordt gebruikt in het sputterproces en het gesputterde filmvormende gas is het belangrijkste materiaal voor sputteren. Ten eerste is het vereist dat het filmvormende gas niet kan reageren met het doelwit en het meest geschikte gas is inert gas. Een grote hoeveelheid speciaal gas zal ook worden gebruikt in het etsproces, terwijl het elektronische speciale gas meestal ontvlambaar, explosief en zeer giftig is, dus de vereisten voor gascircuit en technologie zijn zeer hoog. WOFEI-technologie is gespecialiseerd in het ontwerp en de installatie van het speciaal gastransmissiesysteem voor ultrahoge zuiverheid.
    HF94B06B9CB2D462E9A026212080DB1EFQ
    Speciale gassen worden voornamelijk gebruikt bij het vormen van films en droge etsprocessen in de LCD -industrie. Er zijn veel soorten LCD, waaronder TFT-LCD de meest gebruikte LCD-technologie is vanwege de snelle responstijd, hoge beeldvormingskwaliteit en geleidelijk lagere kosten. Het productieproces van TFT-LCD-paneel kan worden verdeeld in drie fasen: reeks, middelste cel- en achtermodule-assemblage. Het elektronische speciale gas wordt voornamelijk gebruikt in de filmvorming en droge etsenstadia van het voorste arrayproces. Na meerdere filmvormingsprocessen worden SINX niet-metalen films en metalen films zoals Grid, Source, Drain en Ito respectievelijk afgezet op het substraat.
     H37005B2BD8444D9B949C9CB5952F76EDW

    1. Wie zijn wij?

    We zijn gevestigd in Guangdong, China, beginnen vanaf 2011, verkopen aan Zuidoost -Azië (20,00%), Afrika (20,00%), Oost -Azië (10,00%), Midden -Oosten (10,00%), binnenlandse markt (5,00%), Zuid -Azië (5,00%), Noord -Europa (5,00%), 5,00%), 5,00%), 5,00%), 5,00%). Amerika (5,00%). Er zijn in totaal ongeveer 51-100 mensen op ons kantoor.

    2. Hoe kunnen we kwaliteit garanderen?

    Altijd een pre-productiemonster vóór de massaproductie; Altijd definitieve inspectie voor verzending;

    3. Wat kunt u bij ons kopen?

    Drukregelaar, buisfittingen, magneetklep, naaldklep, terugslagklep

    4. Waarom zou u van ons niet van andere leveranciers kopen?

    We hebben een paar jaar bij professionele ingenieurs en toegewijde technici's. Kan beveiligingsproducten voor u bieden

    5. Welke diensten kunnen we bieden?

    Geaccepteerde leveringsvoorwaarden: FOB, CIF, EXW ；

    Geaccepteerde betalingsvaluta: USD, CNY;

    Geaccepteerd betalingstype: T/T, L/C, Western Union;

    Taal gesproken: Engels, Chinees

    Schrijf hier uw bericht en stuur het naar ons

    Productencategorieën