Hoge zuiverheid gas roestvrijstalen pneumatische diafragmventiel 1/4 inch hoge druk
Productbeschrijving
Specificatie van pneumatische diafragmaal
| Technische gegevens | ||
| Poortgrootte | 1/4 ″ | |
| Ontslagcoëfficiënt (CV) | 0,2 | |
| Maximale werkdruk | Handmatig | 310 bar (4500 psig) |
| Pneumatisch | 206 bar (3000 psig) | |
| Werkdruk van pneumatische actuator | 4.2 ~ 6.2 bar (60 ~ 90 psig) | |
| werktemperatuur | PCTFE: -23 ~ 65 ℃（ -10 ~ 150 ℉）） | |
| Lekkage (helium) | binnen | ≤1 × 10-9 mbar l/s |
| extern | ≤1 × 10-9 mbar l/s | |
| Stroomgegevens | ||
| lucht @ 21 ℃（ 70 ℉） water @ 16 ℃（ 60 ℉）） | ||
| Drukval van maximale luchtdrukbalk (PSIG) | lucht (lmin) | Water (l/min) |
| 0,68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3.4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
Schoonmaakproces
▶ Standard (wk-ba)
Alle gelaste gewrichten moeten worden gereinigd volgens de standaard reinigings- en verpakkingsspecificaties van het bedrijf.
Bij het bestellen is het niet nodig om achtervoegsel toe te voegen
▶ Zuurstofreiniging (WK-O2)
Productreiniging en verpakkingsspecificaties voor zuurstofomgeving kunnen worden verstrekt. Dit product ontmoet de
Vereisten voor ASTMG93C -netheid. Voeg bij het bestellen - O2 toe na het bestelnummer
▶ Ultra High Purity (WK-EP)
Kan zorgen voor een gecontroleerde oppervlakteafwerking, electropolishing ra0 dertien μm. Gedeïoniseerd
Water ultrasone reiniging. Om te bestellen, EP toevoegen na het bestelnummer
Alle gelaste gewrichten moeten worden gereinigd volgens de standaard reinigings- en verpakkingsspecificaties van het bedrijf.
Bij het bestellen is het niet nodig om achtervoegsel toe te voegen
▶ Zuurstofreiniging (WK-O2)
Productreiniging en verpakkingsspecificaties voor zuurstofomgeving kunnen worden verstrekt. Dit product ontmoet de
Vereisten voor ASTMG93C -netheid. Voeg bij het bestellen - O2 toe na het bestelnummer
▶ Ultra High Purity (WK-EP)
Kan zorgen voor een gecontroleerde oppervlakteafwerking, electropolishing ra0 dertien μm. Gedeïoniseerd
Water ultrasone reiniging. Om te bestellen, EP toevoegen na het bestelnummer
 | Belangrijkste structurele materialen | ||
| Serienummer | element | textuur van materiaal | |
| 1 | Hendel | aluminium | |
| 2 | Actuator | aluminium | |
| 3 | Klepstam | 304 SS | |
| 4 | Motorkap | S17400 | |
| 5 | Moer | 316 SS | |
| 6 | Knop | messing | |
| 7 | diafragma (5) | Nikkel kobaltlegering | |
| 8 | klepstoel | PCTFE | |
| 9 | kleplichaam | 316L SS | |
Dimensies en bestelinformatie
Direct door het type
maat
Afmetingen zijn in inches (mm) is alleen ter referentie
maat
Afmetingen zijn in inches (mm) is alleen ter referentie
| Basisordernummer | Poorttype en maat | sizein. (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | 1/4 ″ Tube -W | 0.44 (11.2) | 0.30 (7.6) | 1.12 (28.6) | 1.81 (45.9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4 ″ FA-MCR | 0.44 (11.2) | 0.86 (21.8) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4 ″ MA-MCR1/4 | 0.44 (11.2) | 0,58 (14.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0.44 (11.2) | 0.70 (17,9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
Betrokken industrieën
TFT-LCD
Het proces speciale gassen die worden gebruikt in het CVD-depositieproces van TFT-LCD-productieproces zijn silaan (S1H4), ammoniak (NH3), fosfine (PH3), stikstofoxide (N2O), NF3, enz. Bovendien zijn hoge zuiverheidshydrogen en hoge zuiverheidsstikstof en andere bulkgassen ook betrokken bij het proces. Argon wordt gebruikt in het sputterproces en het gesputterde filmvormende gas is het belangrijkste materiaal voor sputteren. Ten eerste is het vereist dat het filmvormende gas niet kan reageren met het doelwit en het meest geschikte gas is inert gas. Een grote hoeveelheid speciaal gas zal ook worden gebruikt in het etsproces, terwijl het elektronische speciale gas meestal ontvlambaar, explosief en zeer giftig is, dus de vereisten voor gascircuit en technologie zijn zeer hoog. WOFEI-technologie is gespecialiseerd in het ontwerp en de installatie van het speciaal gastransmissiesysteem voor ultrahoge zuiverheid.
Speciale gassen worden voornamelijk gebruikt bij het vormen van films en droge etsprocessen in de LCD -industrie. Er zijn veel soorten LCD, waaronder TFT-LCD de meest gebruikte LCD-technologie is vanwege de snelle responstijd, hoge beeldvormingskwaliteit en geleidelijk lagere kosten. Het productieproces van TFT-LCD-paneel kan worden verdeeld in drie fasen: reeks, middelste cel- en achtermodule-assemblage. Het elektronische speciale gas wordt voornamelijk gebruikt in de filmvorming en droge etsenstadia van het voorste arrayproces. Na meerdere filmvormingsprocessen worden SINX niet-metalen films en metalen films zoals Grid, Source, Drain en Ito respectievelijk afgezet op het substraat.
Q1. Hoe zit het met de doorlooptijd?
A: Voorbeeld heeft 3-5 dagen nodig, de massaproductietijd heeft 1-2 weken nodig voor bestelhoeveelheid meer dan
Q2. Heeft u een MOQ -limiet?
A: Lage MOQ 1 PIC.
Q3. Hoe verzendt u de goederen en hoe lang duurt het om aan te komen?
A: We verzenden meestal door DHL, UPS, FedEx of TNT. Het duurt meestal 5-7 dagen. Airline en zee verzending ook optioneel.
Q4. Hoe ga je een bestelling door?
A: Laat ons eerst uw vereisten of toepassing weten.
Ten tweede citeren we volgens uw vereisten of onze suggesties.
Ten derde bevestigt de klant de monsters en plaatsen deposito's voor formele bestelling.
Ten vierde regelen we de productie.
Schrijf hier uw bericht en stuur het naar ons
